深耕半导体领域，开尔新材引领光刻胶创新

随着全球半导体产业的蓬勃发展，光刻胶作为芯片制造的关键材料，发挥着至关重要的作用。位于江苏省常州市的开尔新材料股份有限公司（以下简称“开尔新材”），经过多年的深耕布局，已成为国内光刻胶领域的领军企业，并正在引领光刻胶技术的创新变革。

聚焦半导体，深耕光刻胶

开尔新材的前身为常州光刻胶厂，成立于1993年，是国内最早从事光刻胶研发的企业之一。公司自成立以来，一直专注于半导体领域，特别是光刻胶材料的研发、生产和销售。近年来，随着国内半导体产业的快速发展，开尔新材抓住机遇，大力投资研发，不断提升技术水平和产能规模，在光刻胶领域取得了长足的发展。

自主创新，引领技术突破

作为一家高科技企业，开尔新材始终坚持自主创新，将技术研发作为企业发展的核心驱动力。公司组建了一支强大的研发团队，拥有多项国家专利和核心技术。近年来，开尔新材在光刻胶关键技术领域取得了多项重大突破，打破了国外企业的技术垄断，引领着我国光刻胶产业的发展。

具体技术突破包括：

• 高分辨率光刻胶：开发了具有超高分辨率、高感度和高对比度的光刻胶，满足先进半导体工艺的需求，助力我国半导体芯片制程工艺的提升。
• EUV光刻胶：攻克了EUV光刻胶的配制、涂布和显影等关键技术，为我国EUV光培养并举的发展战略，在激烈的市场竞争中不断取得突破，为我国半导体产业的发展做出了积极的贡献。展望未来，开尔新材将继续坚持自主创新，深耕半导体领域，为我国半导体产业迈向更高水平提供强有力的材料保障。

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