南大光电股票分析:引领光电产业的增长引擎

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简介

南大光电是一家领先的光电企业,主要从事光电产品的研发、生产和销售。公司拥有完整的产业链,涵盖了光学元器件、光电模块、光电系统和光电应用的研发、设计、生产和销售。南大光电产品广泛应用于通信、信息、国防、照明和医疗等领域。

市场地位

南大光电在光电行业拥有领先的市场地位。公司是全球光电器件的主要供应商,也是国内光电模块的龙头企业。南大光电拥有较高的品牌知名度和客户粘性,与华为、中兴通讯、烽火通信等国内外大型通信设备厂商。

财务状况

南大光电近年来财务状况稳健,营业收入和净利润持续增长。2022年上半年,公司实现营业收入20.62亿元,同比增长13.61%;实现归属于母公司净利润5.37亿元,同比增长12.28%。

估值分析

从估值角度来看,南大光电估值相对合理。公司目前的市盈率约为45倍,低于同行业可比上市公司的平均水平。考虑到公司良好的市场地位、技术实力和行业前景,南大光电股价具有较好的上行空间。

投资建议

综合考虑南大光电的市场地位、核心优势、行业前景、财务状况和估值水平,我们推荐投资者重点关注南大光电股票。南大光电股票具备长期投资价值,具有较大的上涨潜力。投资者可根据自身风险承受能力和投资风格,合理配置南大光电股票。

风险提示

投资南大光电股票也存在一定的风险,主要包括:

  • 行业竞争:光电产业竞争激烈,行业集中度不断提升,南大光电面临着国内外同行的竞争压力。
  • 技术更新:光电技术更新换代较快,南大光电需要持续加大研发投入,以保持自身的技术优势。
  • 市场需求波动:南大光电产品需求与通信、信息等下游行业的需求紧密相关,市场需求的波动会影响公司的经营业绩。

投资者在投资南大光电股票前,请务必仔细阅读公司披露的信息,充分了解公司的投资价值和风险,并根据自身投资目标和风险承受能力理性投资。


半导体材料的应用及发展趋势

半导体材料(semiconductormaterial)是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间,电阻率约在1mΩ·cm~1GΩ·cm范围内)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。

一、半导体材料主要种类

半导体材料可按化学组成来分,再将结构与性能比较特殊的非晶态与液态半导体单独列为一类。 按照这样分类方法可将半导体材料分为元素半导体、无机化合物半导体、有机化合物半导体和非晶态与液态半导体。

1、元素半导体:在元素周期表的ⅢA族至ⅦA族分布着11种具有半导性半导体材料的元素,下表的黑框中即这11种元素半导体,其中C表示金刚石。 C、P、Se具有绝缘体与半导体两种形态;B、Si、Ge、Te具有半导性;Sn、As、Sb具有半导体与金属两种形态。 P的熔点与沸点太低,Ⅰ的蒸汽压太高、容易分解,所以它们的实用价值不大。 As、Sb、Sn的稳定态是金属,半导体是不稳定的形态。 B、C、Te也因制备工艺上的困难和性能方面的局限性而尚未被利用。 因此这11种元素半导体中只有Ge、Si、Se3种元素已得到利用。 Ge、Si仍是所有半导体材料中应用最广的两种材料。

(半导体材料)

2、无机化合物半导体:分二元系、三元系、四元系等。 二元系包括:①Ⅳ-Ⅳ族:SiC和Ge-Si合金都具有闪锌矿的结构。 ②Ⅲ-Ⅴ族:由周期表中Ⅲ族元素Al、Ga、In和V族元素P、As、Sb组成,典型的代表为GaAs。 它们都具有闪锌矿结构,它们在应用方面仅次于Ge、Si,有很大的发展前途。 ③Ⅱ-Ⅵ族:Ⅱ族元素Zn、Cd、Hg和Ⅵ族元素S、Se、Te形成的化合物,是一些重要的光电材料。 ZnS、CdTe、HgTe具有闪锌矿结构。 ④Ⅰ-Ⅶ族:Ⅰ族元素Cu、Ag、Au和Ⅶ族元素Cl、Br、I形成的化合物,其中CuBr、CuI具有闪锌矿结构。 ⑤Ⅴ-Ⅵ族:Ⅴ族元素As、Sb、Bi和Ⅵ族元素S、Se、Te形成的化合物具有的形式,如Bi2Te3、Bi2Se3、Bi2S3、As2Te3等是重要的温差电材料。 ⑥第四周期中的B族和过渡族元素Cu、Zn、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni的氧化物,为主要的热敏电阻材料。 ⑦某些稀土族元素Sc、Y、Sm、Eu、Yb、Tm与Ⅴ族元素N、As或Ⅵ族元素S、Se、Te形成的化合物。 除这些二元系化合物外还有它们与元素或它们之间的固溶体半导体,例如Si-AlP、Ge-GaAs、InAs-InSb、AlSb-GaSb、InAs-InP、GaAs-GaP等。 研究这些固溶体可以在改善单一材料的某些性能或开辟新的应用范围方面起很大作用。

(半导体材料元素结构图)

半导体材料

三元系包括:族:这是由一个Ⅱ族和一个Ⅳ族原子去替代Ⅲ-Ⅴ族中两个Ⅲ族原子所构成的。 例如ZnSiP2、ZnGeP2、ZnGeAs2、CdGeAs2、CdSnSe2等。 族:这是由一个Ⅰ族和一个Ⅲ族原子去替代Ⅱ-Ⅵ族中两个Ⅱ族原子所构成的,如CuGaSe2、AgInTe2、AgTlTe2、CuInSe2、CuAlS2等。 :这是由一个Ⅰ族和一个Ⅴ族原子去替代族中两个Ⅲ族原子所组成,如Cu3AsSe4、Ag3AsTe4、Cu3SbS4、Ag3SbSe4等。 此外,还有它的结构基本为闪锌矿的四元系(例如Cu2FeSnS4)和更复杂的无机化合物。

3、有机化合物半导体:已知的有机半导体有几十种,熟知的有萘、蒽、聚丙烯腈、酞菁和一些芳香族化合物等,它们作为半导体尚未得到应用。

4、非晶态与液态半导体:这类半导体与晶态半导体的最大区别是不具有严格周期性排列的晶体结构。

二、半导体材料实际运用

制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求,包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。 半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。 常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。

半导体材料所有的半导体材料都需要对原料进行提纯,要求的纯度在6个“9”以上,最高达11个“9”以上。 提纯的方法分两大类,一类是不改变材料的化学组成进行提纯,称为物理提纯;另一类是把元素先变成化合物进行提纯,再将提纯后的化合物还原成元素,称为化学提纯。 物理提纯的方法有真空蒸发、区域精制、拉晶提纯等,使用最多的是区域精制。 化学提纯的主要方法有电解、络合、萃取、精馏等,使用最多的是精馏。 由于每一种方法都有一定的局限性,因此常使用几种提纯方法相结合的工艺流程以获得合格的材料。

(半导体材料)

绝大多数半导体器件是在单晶片或以单晶片为衬底的外延片上作出的。 成批量的半导体单晶都是用熔体生长法制成的。 直拉法应用最广,80%的硅单晶、大部分锗单晶和锑化铟单晶是用此法生产的,其中硅单晶的最大直径已达300毫米。 在熔体中通入磁场的直拉法称为磁控拉晶法,用此法已生产出高均匀性硅单晶。 在坩埚熔体表面加入液体覆盖剂称液封直拉法,用此法拉制砷化镓、磷化镓、磷化铟等分解压较大的单晶。 悬浮区熔法的熔体不与容器接触,用此法生长高纯硅单晶。 水平区熔法用以生产锗单晶。 水平定向结晶法主要用于制备砷化镓单晶,而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。 用各种方法生产的体单晶再经过晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐蚀、清洗、检测、封装等全部或部分工序以提供相应的晶片。

在单晶衬底上生长单晶薄膜称为外延。 外延的方法有气相、液相、固相、分子束外延等。 工业生产使用的主要是化学气相外延,其次是液相外延。 金属有机化合物气相外延和分子束外延则用于制备量子阱及超晶格等微结构。 非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金属等衬底上用不同类型的化学气相沉积、磁控溅射等方法制成。

三、半导体材料发展现状

相对于半导体设备市场,半导体材料市场长期处于配角的位置,但随着芯片出货量增长,材料市场将保持持续增长,并开始摆脱浮华的设备市场所带来的阴影。按销售收入计算,

半导体材料日本保持最大半导体材料市场的地位。 然而台湾、ROW、韩国也开始崛起成为重要的市场,材料市场的崛起体现了器件制造业在这些地区的发展。 晶圆制造材料市场和封装材料市场双双获得增长,未来增长将趋于缓和,但增长势头仍将保持。

(半导体材料)

美国半导体产业协会(SIA)预测,2008年半导体市场收入将接近2670亿美元,连续第五年实现增长。 无独有偶,半导体材料市场也在相同时间内连续改写销售收入和出货量的记录。 晶圆制造材料和封装材料均获得了增长,预计今年这两部分市场收入分别为268亿美元和199亿美元。

日本继续保持在半导体材料市场中的领先地位,消耗量占总市场的22%。 2004年台湾地区超过了北美地区成为第二大半导体材料市场。 北美地区落后于ROW(RestofWorld)和韩国排名第五。 ROW包括新加坡、马来西亚、泰国等东南亚国家和地区。 许多新的晶圆厂在这些地区投资建设,而且每个地区都具有比北美更坚实的封装基础。

芯片制造材料占半导体材料市场的60%,其中大部分来自硅晶圆。 硅晶圆和光掩膜总和占晶圆制造材料的62%。 2007年所有晶圆制造材料,除了湿化学试剂、光掩模和溅射靶,都获得了强劲增长,使晶圆制造材料市场总体增长16%。 2008年晶圆制造材料市场增长相对平缓,增幅为7%。 预计2009年和2010年,增幅分别为9%和6%。

半导体材料市场发生的最重大的变化之一是封装材料市场的崛起。 1998年封装材料市场占半导体材料市场的33%,而2008年该份额预计可增至43%。 这种变化是由于球栅阵列、芯片级封装和倒装芯片封装中越来越多地使用碾压基底和先进聚合材料。 随着产品便携性和功能性对封装提出了更高的要求,预计这些材料将在未来几年内获得更为强劲的增长。 此外,金价大幅上涨使引线键合部分在2007年获得36%的增长。

与晶圆制造材料相似,半导体封装材料在未来三年增速也将放缓,2009年和2010年增幅均为5%,分别达到209亿美元和220亿美元。 除去金价因素,且碾压衬底不计入统计,实际增长率为2%至3%。

四、半导体材料战略地位

20世纪中叶,单晶硅和半导体晶体管的发明及其硅集成电路的研制成功,导致了电子工业革命;20世纪70年代初石英光导纤维材料和GaAs激光器的发明,促进了光纤通信技术迅速发展并逐步形成了高新技术产业,使人类进入了信息时代。 超晶格概念的提出及其半导体超晶格、量子阱材料的研制成功,彻底改变了光电器件的设计思想,使半导体器件的设计与制造从“杂质工程”发展到“能带工程”。 纳米科学技术的发展和应用,将使人类能从原子、分子或纳米尺度水平上控制、操纵和制造功能强大的新型器件与电路,深刻地影响着世界的政治、经济格局和军事对抗的形式,彻底改变人们的生活方式

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