集微网消息(文/Lee） 7月3日，中微公司发布公告，公司股票简称为“中微公司”，扩位简称为“中微半导体设备”，科创板上市股票代码确定为688012，申购代码为787012，初步询价时间为7月5日，网下与网上申购日同为7月10日。
中微公司本次拟公开发行不超过5348.62万股，募集资金10亿元。其中，本次发行初始战略配售为267.43万股，占本次发行数量的5%，本次战略配售由保荐机构相关子公司跟投组成，跟投主体为海通创新证券投资有限公司(锁定期24个月)。
资料显示，中微半导体是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司，是我国集成电路设备行业的领先企业，是由一大批在全球半导体产业长期耕耘，做出突出贡献的研发、工程技术、销售和营运专家创立和参与的科创企业，公司聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。
在国内半导体设备需求增长的带动下，中微半导体营业收入实现较快增长，2016-2018年度，公司营业收入分别为6.09亿元、9.72亿元、16.39亿元；净利润分别为-2388万元、2992万元、9083万元。
在中微两大产品中，公司开发的高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于7纳米器件中若干关键步骤的加工；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求开发5纳米及更先进的刻蚀设备和工艺。在3DNAND芯片制造环节，公司的电容性等离子体刻蚀设备技术可应用于64层的量产，同时公司根据存储器厂商的需求正在开发96层及更先进的刻蚀设备和工艺。公司的刻蚀设备技术处于世界先进水平，符合产业发展趋势。
此外，中微的MOCVD设备Prismo D-Blue、Prismo A7能分别实现单腔14片4英寸和单腔34片4英寸外延片加工能力。公司的Prismo A7设备技术实力突出，已在全球氮化镓基LED MOCVD市场中占据主导地位。公司和诸多一流的LED外延片厂商公司紧密合作，实现了产业深度融合。同时，公司正在开发更大尺寸MOCVD设备，将有助于产业的进一步发展。
目前，中微拥有多项自主知识产权和核心技术，截至2019年2月28日，公司已申请1,201项专利，已获授权专利951项，其中发明专利800项。在刻蚀设备方面，公司成功开发了低电容耦合线圈技术、等离子体约束技术、双反应台高产出率技术等关键技术。在MOCVD设备方面，公司新开发的Prismo A7设备拥有双区可调控工艺气体喷淋头和带锁托盘驱动技术，以实现优良的波长和厚度均一性指标。
值得提及的是，刻蚀设备及MOCVD设备行业均呈现高度垄断的竞争格局，中微公司是我国半导体设备企业中极少数能与全球顶尖设备公司直接竞争并不断扩大市场占有率的公司，是国际半导体设备产业界公认的后起之秀。（校对/GY）
